作者:同花顺/投研战记 | 发布时间:2024-07-19 | 游览:99
一,涂胶显影设备国产替代空间巨大
消息面,拜登政府限制东京电子Tel对华供应半导体设备,其中影响最大的是涂胶显影设备。
东京电子是涂胶显影设备全球龙头,占据了国内半导体设备很大的市场,尤其在涂胶显影设备这一块约90%的市场,一家独大,主导地位显著。东京电子限制出货了,国内涂胶显影设备相关企业巨大利好,国产替代空间巨大。
二,涂胶显影设备是什么?
涂胶显影设备是与光刻机配合进行作业的关键处理设备,主要负责涂胶、烘烤及显影。
涂胶显影机作为光刻机的输入(曝光前光刻胶涂覆)和输出(曝光后图形的显影)设备,主要通过机械手使晶圆在各系统之间传输和处理,从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程,其直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成。
涂胶显影设备是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。在早期的集成电路和较低端的半导体制造工艺中,此类设备往往单独使用。
随着集成电路制造工艺自动化程度及客户对产能要求的提升,多与光刻设备联机作业,KrF、ArF以及ArFi 工艺设备逐渐占领市场。
三,涂胶显影设备产业链
从产业链角度来看, 资料显示,涂胶显影设备位于半导体产业链的上游(支撑产业),涂胶显影设备既用于半导体晶圆制造(光刻环节),也用于半导体封测(涂胶、显影环节)、OLED制造(光刻环节)。
涂胶显影设备所处产业链位置图示:
四,涂胶显影设备市场格局
涂胶显影等半导体设备行业的市场准入壁垒较高。
在光刻工序涂胶显影设备领域,日本东京电子(TEL)处于垄断地位,市占率高达90%。
主要企业还包括日本迪恩士(DNS)、德国苏斯微(SUSS)、中国台湾亿力鑫(ELS)、韩国细美事(SEMES)等。
中国大陆涂胶显影设备中仅芯源微入围榜单前列。
这些国内部分晶圆厂五年来共采购202台设备,其中东京电子获得采购163台,占比80.7%。
中标的国产设备厂商包括芯源微和盛美上海,目前国内厂商中,芯源微为少数拥有高端in-line设备的量产制造能力,近五年获得采购25台设备,在国内市场占比约12%;盛美上海的中标设备为1台涂胶机和1台显影机,均为off-line设备。
五,A股涂胶显影设备概念股梳理:
芯源微:国内涂胶显影设备龙头,布局化学清洗和先进封装;
盛美上海:2022年末公司分别推出Ultra Pmax PECVD设备及涂胶显影设备,2024年公司预计拥有2-3名核心PECVD客户,并于2025年有望开始放量贡献营收,支撑公司未来5-8年高速成长。此外,公司计划于2024年底推出ArF涂胶显影迭代设备,同时浸没式ArFi Track也将同步推出,差异化产品设计将在客户端产生更大的价值和效益。
固高科技:公司产品在刻蚀、沉积、清洗等半导体前道加工设备中已形成订单,并积极开发如光刻机、机械抛光、涂胶显影等晶圆制造先进制程控制系统;
至正股份:主要产品包括清洗设备、烘箱设备、腐蚀设备、涂胶显影设备、去胶设备、分片设备等。
罗博特科:公司积极开展业务布局,于 2023 年年初立项并实施了半导体涂胶显影设备开发与研究项目。2020 年,公司通过全资子公司斐控晶微参股 ficonTEC 布局光电子及半导体封装测试设备领域。
至纯科技:公司日前主要为下游客户提供半导体制程设备(湿法清洗设备、光伏制绒设备、炉管、涂胶显影;
富乐德:半导体光刻环节涉及溶胶显影设备、涂胶设备、光刻设备、对准检测设备等多种设备,其中溶胶显影、涂胶等设备系公司洗净服务对象。
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